국내 반도체 기술을 중국에 유출한 혐의로 기소된 국내 대기업과 중견기업 전·현직 직원들에게 실형과 징역형의 집행유예가 선고됐다.
대전지법 제12형사부(김병만 부장판사)는 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 국내 모 기업 전 연구원 A(59)씨에게 징역 2년 6개월을 선고했다.
함께 재판에 넘겨진 공범 4명은 징역 6개월에서 2년에 집행유예 1년에서 3년을 선고받았으며, 나머지 한 명은 벌금 500만 원을 선고받았다.
국내 3개 대기업·중견기업 전·현직 직원인 이들은 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사 기밀자료를 열람한 뒤 개인 휴대전화로 촬영하는 수법 등으로 자료를 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.
유출 자료에는 회사의 첨단기술이자 영업비밀은 물론 반도체 웨이퍼 연마공정 관련 국가 핵심기술이자 영업비밀까지 포함된 것으로 조사됐다.
주범인 A씨는 임원 승진에 탈락한 뒤 2019년 6월 중국 업체와 반도체 웨이퍼 연마제 제조사업 동업을 약정한 것으로 드러났다. 이후에도 회사에 근무하면서 메신저 등으로 중국 내 연마제 생산설비 구축과 사업을 관리하는 한편 다른 회사 연구원들을 스카우트해 중국 업체로 이직시키는 데 관여한 것으로 나타났다.
재판부는 "피해 회사들이 기술 연구·개발에 투입한 많은 노력과 비용을 헛되게하고, 건전한 경쟁과 거래질서를 심각하게 저해했다"며 "범행이 계속 진행됐을 경우 피해 회사들이 실제 입을 수 있었던 피해 규모를 고려하면 위험성이 큰 범죄였다"고 판시했다.
다만 "피고인별로 범행 동기나 가담 경위에 일부 참작할 만한 사정이 있고, 유출된 정보의 양은 많으나 중요도가 떨어지는 정보도 다수 포함된 점 등을 종합적으로 고려했다"고 덧붙였다.