올해 2월부터 본격 가동을 시작한 'V1 라인'은 삼성전자의 첫 EUV 전용 라인이다. 최근 7나노 이하 반도체 생산에 돌입했다. EUV 노광 기술은 파장이 짧은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술로, 고성능·저전력 반도체를 만드는 데 필수적이다.
삼성전자는 이곳에서 차세대 파운드리 제품을 주로 생산할 계획이다. V1라인은 2018년 초 건설을 시작해 지난해 하반기에 완공됐다. 삼성전자는 이 라인에 누적 60억달러(약 7조원)를 투자했다.
이 부회장이 올해 첫 경영 일정으로 지난 1월 2일 화성사업장 내 반도체연구소를 찾은 데 이어 한 달여 만에 EUV 전용라인을 찾은 것은 시스템 반도체 비전에 대한 강한 의지를 나타낸 것으로 해석된다. 삼성전자 지난해 시스템반도체에 133조원 투자하고 1만 5천명 채용과 생태계 육성 지원방안 등을 담은 '반도체 비전 2030'을 발표했었다.